Maska pełnotwarzowa przeciwgazowa OXYLINE X8 CL-2 (FFS600 BAGNET)

Lekka i super wygodna

Dwufiltrowa, silikonowa maska ​​na całą twarz z serii X8 składa się z korpusu, dużego wizjera panoramicznego z możliwością widzenia peryferyjnego, dwóch trwałych łączników bagnetowych z zaworami wdechowymi oraz uszczelek i opasek na głowę. Konstrukcja maski pozwala na jej uzupełnienie o elementy usuwające szkodliwe substancje w postaci aerozolu (kurz, dym, mgła), w postaci par i gazów lub obu tych form razem. Relatywnie niska waga maski serii X8 oraz podwójne złącza do mocowania jej do elementów myjących zwiększają efektywność pracy. Półmaski serii X8 są dostępne w rozmiarze L.
Odporne na uszkodzenia X8

Wizjer maski serii jest odporny na zarysowania i zaparowanie. Panoramiczna osłona twarzy z poliwęglanu maksymalizuje światło wewnątrz maski i zapewnia optymalną widoczność, jednocześnie chroniąc przed uderzeniami. 4-punktowe mocowanie maski serii X8 za pomocą uprzęży nagłownej zapewnia doskonałe uszczelnienie i stabilną pozycję podczas pracy .

Maska pełnotwarzowa serii X8 może być używana z filtrami T-BM P2 R, T-BM A P2 R, T-BM P3 R, T-BM A P3 R, X2000-AG P3 R, filtrami kapsułkowymi X793 P3 R, X793C AP3 R, filtry pochłaniacze X701 A1, X702 A1E1, X703 ABEK1 i X70523 A2P3 RD, X70923 A1E1 P3 RD, X70926 ABEK1 P3 RD

Test podciśnieniowy

1. W przypadku stosowania z filtrami X701 A1, X702 A1E1, X703 ABEK1, X70923AE1P3 R D, X70926 ABEK1P3 R D, X70523 A2P3 R D, zakryj rękoma otwory pochłaniaczy i wykonaj wdech (Fig.5).W przypadku braku wycieku, można poczuć, że maska jest dopasowana do twarzy.
2. W przypadku stosowania z filtrami X793 P3 R, X793C P3 R ściśnij palcami pokrywę filtra z jego korpusem aby go uszczelnić, wykonaj wdech (Fig.6).W przypadku braku wycieku, można poczuć, że maska jest dopasowana do twarzy.
3. W przypadku stosowania z filtrami serii X2000 należy umieścić kciuki w środkowym położeniu filtrów i wdychać powietrze (Fig.7).W przypadku braku wycieku, można poczuć, że maska jest dopasowana do twarzy.
4. Jeśli w niektórych testach wykryjesz przeciek, oznacza to, że maska nie została prawidłowo umiejscowiona na twarzy. Jeśli tak jest, należy ponownie ją dopasować elastyczne paski i powtórzyć kontrolę szczelności.
5. Jeśli nie można uzyskać prawidłowego dopasowania do twarzy, nie należy wkraczać w  zanieczyszczone miejsce.
6. Skonsultuj się z ekspertem ds. bezpieczeństwa pracy. Aby zdjąć półmaskę, poluzować elastyczne paski, odpiąć dolne paski i zdjąć uprząż z głowy

PRZECHOWYWANIE

Maska musi być przechowywana bez filtrów w hermetycznie zamkniętym worku w temperaturze pokojowej, w suchym miejscu z dala od zanieczyszczeń. Nie wystawiać aparatu oddechowego na działanie ciepła powyżej 50°C i nie narażać go na bezpośrednie działanie promieni słonecznych

CZYSZCZENIE I DEZYNFEKCJA

1. Zdjąć filtry przed czyszczeniem półmaski
2. Półmaskę oczyścić wilgotną ściereczką i zanurzyć w ciepłym roztworze wodnym, którego temperatura nie może przekraczać 50°C w razie potrzeby stosując neutralny detergent
3. Spłukać ciepłą wodą i osuszyć powietrzem w środowisku wolnym od zanieczyszczeń.
4. NIE CZYŚCIĆ ZA POMOCĄ ROZPUSZCZALNIKÓW, SILNYCH DETERGENTÓW LUB PRODUKTÓW ROPOPOCHODNYCH.

OSTRZEŻENIA

1. Ta maska nie dostarcza tlenu (O2 ) i musi być używana w wentylowanej atmosferze roboczej, gdzie ilość tlenu jest równa lub większa niż 19,5% w objętości.
2. Odpowiedni typ filtra musi być dobrany w każdym przypadku w zależności od stężenia i rodzaju zanieczyszczeń.
3. Na każdej masce należy umieścić dwa filtry.
4. W żadnym wypadku nie mogą być używane do ochrony przed tlenkiem węgla.
5. Maska nie może być modyfikowana ani zmieniana.
6. Maska z filtrami nie może być używana w kontenerach, studniach, kanałach lub zamkniętych pomieszczeniach bez wentylacji.
7. Nie wolno używać z brodą lub innymi elementami na twarzy użytkownika, które mogłyby uniemożliwić dopasowanie twarzy.
8. Pozostawić miejsce pracy w przypadku uszkodzenia maski, trudności w oddychaniu i/lub zawrotów głowy lub mdłości.
9. Nie stosować w środowisku zagrożonym wybuchem.
10. Stosować w połączeniu tylko z filtrami posiadającymi certyfikat CE wg EN 143:2000 + A1:2006 lub pochłaniaczami wg EN 14387:2004 + A1:2008. Należy przestrzegać obowiązujących przepisów krajowych. Wytyczne zawarte są w normie EN 529: 2005 (zalecenia dotyczące doboru, stosowania, pielęgnacji i konserwacji)
11. Nie używać w atmosferze o zwiększonej zawartości tlenu (wzbogaconej tlenem)

UWAGA! Maski sprzedawane są bez filtrów, pochłaniaczy i filtropochłaniaczy.

W sprzedaży do w/w maski posiadamy filtry X70926 A1B1E1K1 P3 R D (pakowane po 2 sztuki). Cena filtrów - 100 zł - nie jest wliczona w cenę maski.

Filtr kombinowany X70926 ABEK1P3 RD to produkt wielokrotnego użytku do masek z podwójnym filtrem. Filtr kombinowany X70926 ABEK1P3 RD ze złączem bagnetowym chroni przed oparami i gazami organicznymi o temperaturze wrzenia powyżej 65°C (brązowy), oparami i gazami nieorganicznymi z wyjątkiem tlenku węgla (szary), dwutlenkiem siarki oraz oparami i gazami kwaśnymi ( żółty), amoniak i pochodne amoniaku (zielony) w stężeniu nieprzekraczającym 0,1% obj. w powietrzu, a także chroniący przed pyłem, dymem i mgłą.

Ograniczenia i przechowywanie
Nie używać w środowisku, w którym stężenie tlenu jest mniejsze niż 19,5% iw obecności nieznanych gazów. Przechowywać w oryginalnym opakowaniu wraz z instrukcją, bez podłączonych elementów oczyszczających, w temperaturze od -20°C do +30°C i wilgotności RH<80%. Chronić przed bezpośrednim działaniem promieni słonecznych.

SPRAWDZANIE SZCZELNOŚCI